解析典型電子級反滲透設備超純水設備工藝(圖文)

　　北京中天恒遠的小編龍二給您詳細的介紹——典型電子級反滲透設備超純水設備工藝 幫助廣大用戶朋友更好的了解。

　　超純水水質標準

　　我公司電子級超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。

　　典型電子級反滲透設備超純水設備工藝

　　1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光樹脂→精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(傳統工藝)

　　2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光樹脂→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(比較新工藝)

　　3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(比較新工藝)

　　4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(比較新工藝)

　　5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(傳統工藝)

　　電子級反滲透設備超純水設備特點

　　1、整體化程度高、易于擴展、增加膜數量即可增加處理量。

　　2、自動化程度高，遇故障立即自停，具有自動保護功能。

　　3、膜組件為復合膜卷制而成，表現出更高的溶質分離率和透過速率。

　　4、能耗低、水利用率高、運行成本低。

　　5、結構合理，占地面積少。

　　6、先進的膜保護系統，在設備關機，淡化水可自動將膜面污染物沖洗干凈，延長膜壽命。

　　7、系統無易損部件，無須大量維修，運行長期有效。

　　8、設備設計有膜清洗系統用阻垢系統。

　　新興的光電材料生產、加工、清洗，LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對電子級超純水設備工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。

　　反滲透設備聯系方式：

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