北京中天恒遠的小編龍二給您詳細的介紹——半導體生產用反滲透設備超純水設備工作原理 幫助廣大用戶朋友更好的了解。
半導體生產用反滲透超純水設備工作原理
超純水裝置供給原水進入EDI系統,主要部分流入樹脂/膜內部,而另一部分沿膜板外側流動,以洗去透出膜外的離子,樹脂截留水中的容存離子,被截留的離子在電極作用下,陰離子向正極方向運動,陽離子向負極方向運動,陽離子透過陽離子膜,排出樹脂/膜之外,陰離子透過陰離子膜,排出樹脂/膜之外,濃縮了的離子從廢水流路中排出,無離子水從樹脂/膜內流出。
半導體生產用反滲透設備超純水備工藝
1、預處理-反滲透-水箱-陽床-陰床-混合床-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-精密過濾器-用水對象
2、預處理-一級反滲透-加藥機(PH調節)-中間水箱-第二級反滲透-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象
3、預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象
4、預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制拋光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(新工藝)
半導體生產用反滲透設備超純水備特點
1、選用高性能離子交換樹脂,工作交換容量大,能耗低,使用壽命比較長。
2、控制部分全部采用進口控制器,保障設備持續安全運行。
3、全自動控制系統,出水穩定,使用操作方便快捷。
4、結構合理,安裝操作方便。
5、可根據實際使用需求,水處理設備個性化設計相應設備。
半導體生產用反滲透設備超純水備主要由預處理、反滲透、EDI模塊和后處理裝置組成,可以有效去除原水中的懸浮物、膠體、細菌、金屬離子等雜質,出水電阻率可以達到18兆歐以上,完全滿足半導體行業用水需求。
反滲透設備聯系方式:
銷售熱線:010-8022-5898
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中天恒反滲透設備、超純水設備、純化水設備服務流程:
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